顾越鹏

顾越鹏，男，1964年8月出生于浙江杭州，博士。现任美国IBM公司高级工程师。1982年入杭州大学化学系学习，于1986年、1989年分别获学士和硕士学位。1990年自费申请赴美留学，同时获得美国休斯顿大学及加拿大不列巅哥伦比亚大学全额奖学金攻读博士学位。1993年转学至匹兹堡大学化学系物理化学专业，1998年获理学博士学位。1996年，应以色列国家科学院（WEISMANN INSTITUTE SCIENCE）物理化学系主任邀请，赴以参加“在固体表面合成单分子膜”的联合研究项目，成果显著。由于工作出色，1997年被美国移民局以“国家利益豁免人才”授予永久居留权。2006年，被IBM哈得逊微电子研究中心聘为高级工程师。